氯化銨腐蝕機(jī)理及煉油設(shè)備防護(hù)措施

       華中油脂機(jī)械給您講解氯化銨腐蝕機(jī)理及煉油設(shè)備防護(hù)措施。

       氯化銨是一種溶于水和電離銨根離子和氯離子的強(qiáng)電解質(zhì)。水溶液呈弱酸性，加熱時(shí)酸性增強(qiáng)。由于水中電離銨根離子的水解使溶液呈酸性，飽和氯化銨溶液在室溫下的PH值一般在5.6左右。1%PH值為5.5，3%PH值為5.1，10%PH值為5.0。氯化銨腐蝕黑色金屬和其它金屬。濕氯化銨的腐蝕是設(shè)備和管道失效的主要原因之一。

       例如，加氫流出系統(tǒng)、原油蒸餾和熱分餾塔頂部系統(tǒng)、催化轉(zhuǎn)化裝置（定期焦化裝置DCU和）、沸騰催化裂解裝置（FCCU）頂部系統(tǒng)、催化重組裝置中的產(chǎn)品穩(wěn)定塔和循環(huán)氣系統(tǒng)等煉油設(shè)備。

       在上述過(guò)程中，大部分設(shè)備的一般結(jié)構(gòu)材料都是碳鋼。產(chǎn)生濕氯化銨鹽時(shí)，碳鋼的腐蝕率會(huì)很高。然而，奧氏體不銹鋼等許多一般合金不適合更換，因?yàn)樗鼈冊(cè)谶@些環(huán)境中容易受到氯的腐蝕和裂化。它對(duì)氯和硫結(jié)合下的斑點(diǎn)腐蝕和應(yīng)力腐蝕裂化有一定的作用。在某些情況下，濕氯化銨的腐蝕率與鹽酸相似，因此濕氯化銨的腐蝕往往與鹽酸相比。

       然而，它們是不同的。例如，NH3-HCL-H2O三級(jí)系統(tǒng)的熱力學(xué)性能與HCL-H2O二級(jí)系統(tǒng)明顯不同。氣相中的少量HCL在HCL-H2O二級(jí)系統(tǒng)中并沒(méi)有顯著改變水的露點(diǎn)。即使HCL濃度高達(dá)數(shù)百PMV，露點(diǎn)溫度也只會(huì)增加幾度。然而，在NH3-HCL-H2O三級(jí)系統(tǒng)中，即使是微量HCL和NH3也能顯著提高水的露點(diǎn)溫度，并在原露點(diǎn)形成高濃度的NH4CL溶液。因此，氯化銨對(duì)金屬的腐蝕更為嚴(yán)重。銨鹽(尤其是氯化銨)引起的結(jié)垢和結(jié)垢腐蝕嚴(yán)重影響了各種生產(chǎn)設(shè)備的可靠性。

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